半導体産業向けソリューション
前工程から後工程まで、ゴアの先進技術が半導体製造プロセスを支えます。清浄な環境での安定した稼働と、長期にわたる信頼性を提供します。
半導体製造の全工程を支えるゴアの先進技術
ゴアは、先進技術やソリューションの開発、そしてパートナー企業との連携を通じて、半導体製造の技術革新を継続的に推進しています。
半導体業界では、製造コストを抑えながら、より小型・高性能なマイクロチップの実現、厳格な品質基準を満たすファブ工程の確保、ウェハ生産量の拡大と歩留まりの向上が求められています。
ゴアのソリューションは、化学的に不活性なポリテトラフルオロエチレン（PTFE）ベースの材料を採用し、クリーンルームでの厳しい製造条件下でも安定した性能を発揮します。前工程のウェハ製造から後工程の組立・試験まで、当社のケーブル、アセンブリ、メンブレン、モジュールが、信頼性が高く再現性のある製造プロセスを実現します。
クリーンルーム向け先進技術
ゴアの高性能ソリューションは、半導体メーカーが現在および将来にわたって直面する複雑な課題の解決を支援します。
関連製品・ソリューション
半導体製造装置
ゴアのフラットケーブル/トラックレスケーブルは、ISOクラス1クリーンルーム、低圧真空環境、静電気放電（ESD）の影響を受けやすい環境での使用に適しています。数百万回の繰り返し屈曲にも耐えながら高速伝送を維持し、発塵やアウトガスを低減。ケーブルキャリアが不要なため、よりシンプルな運用が可能です。その精度と信頼性は、数多くの現場で実証されています。
リソグラフィ、計測・検査装置
ゴアのクリーンルーム向けケーブルソリューションは、固定・可動いずれの用途にも対応するカスタム設計で、高速かつ高精度な性能を発揮し、歩留まり向上に貢献します。クリーン度クラス1の高真空環境に加え、クリーン度クラス2および4のEUV/UVリソグラフィにも使用でき、次世代の高NA EUVシステムへの移行もサポートします。
半導体/マイクロエレクトロニクス製造プロセス
ゴアの精密ろ過メンブレンは、プロセス流体の高純度化を実現し、ファブ工程の歩留まり向上を支えます。また、オゾネーションモジュールが生成するクリーンで無気泡（バブルフリー）のオゾン水は、シリコンウェハ洗浄や半導体/FPDファブ工程における腐食性化学薬品の使用量削減に貢献します。
半導体/チップ試験装置
耐久性と柔軟性を兼ね備えたゴアのマイクロウェーブ/RFテストアセンブリは、正確で再現性の高い測定を可能にします。ウェハテスト、パッケージテスト、システムオンチップ（SoC）自動試験、ミリ波5Gテストなど、さまざまな試験環境において測定精度の向上に貢献します。
半導体製造の高度化を支えるリソグラフィ向け先進ソリューション
ゴアは、精度・効率・拡張性を重視して開発された先進的なリソグラフィ向けソリューションにより、次世代の半導体製造を支えます。
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