ゴア® オゾネーションモジュール半導体およびマイクロエレクトロニクス製造プロセス用

極めてクリーンな無気泡（バブルフリー）オゾン水ソリューション

ゴア^® オゾネーションモジュールは、シリコンウェハや半導体用途向けのオゾン水洗浄装置に採用されています。腐食性の高い薬液を用い、多くの洗浄工程を必要とする従来の手法に比べ、オゾン化超純水（DI-O₃水）による、より安全で効率的な処理を実現します。

特長とメリット

用途

技術比較

特長とメリット

用途

ゴア® オゾネーションモジュールは、マイクロエレクトロニクス産業の先端SEMIプロセスにおけるオゾン水洗浄工程に適した、コスト効率の高いソリューションです。主な用途は次のとおりです。

技術比較

ゴア® オゾネーションモジュールは、オゾンガスを超純水に連続的かつ安定して溶解させ、極めてクリーンで無気泡（バブルフリー）なオゾン水を生成します。エジェクターやスタティックミキサーなどの機械混合方式に比べ、より高い清浄度を実現します。

ゴア® オゾネーションモジュールは、全ガス圧差に基づく拡散原理を利用してオゾンを水中に溶解させ、極めてクリーンで無気泡（バブルフリー）のオゾン水を生成します。

重要な特性	ゴア® オゾネーションモジュール	機械混合方式（インジェクター/エジェクター & スタティックミキサー）
清浄度	無気泡（バブルフリー） ePTFEオゾン溶解用メンブレンにより、オゾンガス中のパーティクルを排除	オゾンガスの直接注入により、オゾン水中に気泡が発生する可能性があるオゾンガス中のパーティクル除去を目的としたろ過機能なし
稼働性	高濃度オゾン水を安定して生成オゾン化超純水の安定した流量	水圧やガス圧の変動の影響を受けやすく、生成状態が不安定になりやすい

ゴアは、数十年にわたり培ってきた独自の材料科学技術と製造プロセス全般に関する深い知見をもとに、クリーン性・耐久性・信頼性に優れた実績あるソリューションを提供しています。

ゴアのオゾン溶解モジュールは、半導体およびマイクロエレクトロニクス分野の洗浄工程において、工程性能と歩留まりの向上を実現する、実証済みの信頼性の高いソリューションです。

以下の表に、半導体およびマイクロエレクトロニクス製造プロセス用ゴア® オゾネーションモジュールの特性値を示します。