ゴア^® マイクロフィルトレーションメディア

ゴア® マイクロフィルトレーションメディアは、ウェットエッチング/洗浄（WEC）、フォトリソグラフィ、化学的機械研磨（CMP）など、高い信頼性が求められる液体ろ過用途で40年以上にわたり採用されてきました。

• 半導体製造: ゴアのメンブレンは、ロジックおよびメモリー製造工程において、ナノパーティクルや有害なコンタミネーションの除去に貢献しています。ウェハ洗浄装置向けフィルターに採用され、ウェハ欠陥の低減を支えています。高い捕集効率と高流量を両立することで、生産効率を維持しながら歩留まり向上を可能にします。
• マイクロエレクトロニクス製造: LED/OLEDフラットパネルディスプレイ（FPD）をはじめとするマイクロエレクトロニクス分野において、ゴアのメンブレンは歩留まり向上とトータルコスト低減に貢献しています。センサーなどの製造工程においても、安定したフィルター性能と高品質を提供します。
• 高純度薬液製造: 耐薬品性に優れたePTFEメンブレンは、半導体グレード薬液の製造工程でパーティクルを低減し、高い清浄度を実現します。

精密ろ過における40年以上の実績

ゴアは長年にわたり、空気・ガス・液体・粒子のろ過ソリューションを提供してきました。パートナー企業による製造プロセスの高純度化、歩留まり改善、コスト削減を支援しながら、チップ設計の微細化が進む中でも業界ニーズに応えるメンブレンの開発を継続しています。ePTFEの製造技術とメンブレン微細構造に関する豊富な知見を活かし、高い捕集効率を維持しながら生産性向上に貢献します。用途に応じてメンブレン特性をカスタマイズすることも可能です。